1. 概要
システムオンシリコン時代を迎え、今後ますます EDA技術の重要性は高まること
と考えられる。 同時に、LSIプロセス技術の進歩による性能向上は著しく「設計
クライシス」(設計技術力の改善が、LSI集積度・高性能化に追いついていない)
が指摘されている。 米国では The National Technology Roadmap of
Semiconductors (1994), EDA Industry Standards Roadmap (1995)などが作成され
各種の技術標準化が推進されている。
このような中、EDA技術委員会に「EDAビジョン研究会」を発足させ、期待される
LSI設計の将来像とこれを実現するための EDA技術ロードマップを描出する。
2. 使命
主として国内エレクトロニクス産業における設計ニーズに応えるために、2002年
の 高性能 LSI設計技術を描き、EDA技術課題を提示する。 また課題解決に向けて
業界関連機関、標準化機関などの取り組むべき方向を提示する。
3. 活動の成果
以下のアウトプットを作成する。 成果は国内外に向けて発信する。
(1) 2002年のハイエンド ASIC設計のニーズ調査に基づいた設計手法、
EDA技術課題、ロードマップの作成
(2) 課題実現に向けての業界関連機関との連携、EDA標準化活動への反映